光刻装置和器件制造方法
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摘要
光刻装置和器件制造方法公开了一种光刻装置，其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙，配置成通过所述出口排出混合物的排空系统，该排空系统包括布置成把混合物中的液体和气体分开的分离罐和分离罐压力控制器，该分离罐压力控制器与分离罐的非液体填充区相连，并配置成使非液体填充区保持稳定的压力。
基本信息
专利标题 ：
光刻装置和器件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1770018A
申请号 ：
CN200510114138.5
公开（公告）日 ：
2006-05-10
申请日 ：
2005-10-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·J·S·M·梅坦斯S·N·L·多德斯R·F·德格拉夫C·A·胡根达姆A·J·范德内特F·J·H·M·特尼斯森P·A·J·廷内曼斯M·C·M·维哈根J·J·L·H·维斯帕E·A·M·范戈佩
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
肖春京
优先权 ：
CN200510114138.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-07-29 ：
授权
2007-07-04 ：
实质审查的生效
2006-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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