光刻装置和器件制造方法

专利权的终止

摘要

本发明涉及一种在采用封闭面来限制液体供给系统中的液体时减少光刻装置中的浸液污染的方法。为了避免或降低由封闭面与液体供给系统碰撞而造成的颗粒污染，封闭面保持在与液体供给系统相距一定距离的地方，使得封闭面与液体供给系统之间没有碰撞，但是液体仍然被限制住。

基本信息

专利标题：

光刻装置和器件制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1821881A

申请号：

CN200510137056.2

公开（公告）日：

2006-08-23

申请日：

2005-12-14

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

H·詹森P·A·J·廷内曼斯J·－G·C·范德图尔恩

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

杨松龄

优先权：

CN200510137056.2

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2015-02-04 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101597012468
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005101370562
申请日 : 20051214
授权公告日 : 20120718
终止日期 : 20131214

2012-07-18 ：

授权

2008-01-30 ：

实质审查的生效

2006-08-23 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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