一种用于曝光基底的光刻装置和方法。照射系统提供辐射光束。带图案的光束被投射到基底的目标部分上。位移系统引起基底和光束之间的相对位移。设置所述投影系统，使得每条光束沿基底上的相应一条轨迹进行扫描。所述轨迹重叠，使得每条轨迹包括一个仅被一条光束扫描的第一部分和至少一个与相邻轨迹重叠且被两条光束扫描的第二部分。朝向所述轨迹的第一部分引导的每一条光束第一部分的最大强度大于朝向所述轨迹的第二部分引导的所述光束第二部分的最大强度，使得所述轨迹的第一部分和第二部分曝光于具有大体上相同最大强度的辐射中。相邻光束的这种重叠和光束强度的调节允许光学印记接合在一起，从而能够在单次扫描中曝光较大面积的基底。