光刻装置和器件制造方法
专利权的终止
摘要
光刻装置包括第一可移动元件(例如浸入供液系统)，其在操作中与第二可移动元件(例如衬底台)的表面接触。另外，该光刻装置包括用于控制第二可移动元件的位置量的第二元件控制器(例如衬底台控制器)。由例如第一和第二可移动元件相对于彼此的移动所引起的干扰力，由于毛细管力的缘故扰乱了第一和第二可移动元件的位置。为了至少部分地纠正由于这种干扰力的第二可移动元件的位置，该光刻装置包括用于将干扰力前馈信号提供给第二元件控制器的前馈控制路径，该前馈控制路径包括用于根据第一可移动元件的位置量来估计干扰力的干扰力估计器。
基本信息
专利标题 ：
光刻装置和器件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1797212A
申请号 ：
CN200510134050.X
公开（公告）日 ：
2006-07-05
申请日 ：
2005-12-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·豪克斯H·布特H·H·M·科西
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
吴立明
优先权 ：
CN200510134050.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2017-02-22 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101705177019
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL200510134050X
申请日 : 20051227
授权公告日 : 20100818
终止日期 : 20151227
号牌文件序号 : 101705177019
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL200510134050X
申请日 : 20051227
授权公告日 : 20100818
终止日期 : 20151227
2010-08-18 ：
授权
2008-01-02 ：
实质审查的生效
2006-07-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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