光刻装置和器件制造方法
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种浸没光刻装置，在所述装置中，一个或多个液体分流器设置在液体限制结构所包围的间隙中。液体分流器的功能是阻止一个或多个浸没液体回流区的形成，回流区可以导致在所述间隙中的浸没液体的折射率改变，进而造成成像错误。
基本信息
专利标题 ：
光刻装置和器件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1811601A
申请号 ：
CN200610008927.5
公开（公告）日 ：
2006-08-02
申请日 ：
2006-01-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
P·M·M·列布雷格特斯J·H·W·雅各布斯T·尤得迪杰克
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
胡强
优先权 ：
CN200610008927.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2017-03-01 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101705999287
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2006100089275
申请日 : 20060112
授权公告日 : 20100818
终止日期 : 20160112
号牌文件序号 : 101705999287
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2006100089275
申请日 : 20060112
授权公告日 : 20100818
终止日期 : 20160112
2010-08-18 ：
授权
2008-02-13 ：
实质审查的生效
2006-08-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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