光刻装置和器件制造方法
授权
摘要
公开了用于减小光刻装置的液体供给系统中的压力梯度的各种类型的压力调节器件，液体供给系统具有构造成可在光刻装置的投影系统与衬底台之间至少部分地限制液体的液体限制结构。高的压力梯度会引起液体供给系统和/或液体限制结构中的颗粒污染。例如可以利用在一个或多个阀中的低速切换、围绕或通过一个或多个阀的引射流、将液体改道到排出管而不是或者附加地将阀切断、用于防止冲击波的压力调节器或流动限制器，以及用于补偿压力波动的缓冲容积/缓冲器，来减小压力梯度。
基本信息
专利标题 ：
光刻装置和器件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1825208A
申请号 ：
CN200610004195.2
公开（公告）日 ：
2006-08-30
申请日 ：
2006-02-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·K·斯塔文加J·H·W·雅各布斯H·詹森M·C·M·维哈根
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
胡强
优先权 ：
CN200610004195.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2012-07-18 ：
授权
2008-04-16 ：
实质审查的生效
2006-08-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
