光刻装置以及器件制造方法
专利权的终止
摘要
公开了一种包括液体供给系统的浸入式光刻装置，该液体供给系统具有设置成可将液体供给到光刻装置的投影系统与衬底之间的空间中的入口，以及设置成可去除至少部分液体的出口，该液体供给系统设置成可使入口、出口或这两者围绕基本上垂直于衬底的曝光面的轴线旋转。
基本信息
专利标题 ：
光刻装置以及器件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101241316A
申请号 ：
CN200810081442.8
公开（公告）日 ：
2008-08-13
申请日 ：
2005-12-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·J·M·巴塞曼斯S·N·L·多德斯C·A·霍根达姆J·J·S·M·梅坦斯J·C·H·穆肯斯B·斯特里克
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王波波
优先权 ：
CN200810081442.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2015-01-14 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101595905391
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2008100814428
申请日 : 20051201
授权公告日 : 20120704
终止日期 : 20131201
号牌文件序号 : 101595905391
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2008100814428
申请日 : 20051201
授权公告日 : 20120704
终止日期 : 20131201
2012-07-04 ：
授权
2008-10-08 ：
实质审查的生效
2008-08-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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