光刻设备及器件制造方法

授权

摘要

一种光刻设备包括：用于提供辐射束的照射系统；包括单独可控单元阵列的用于把图案赋予辐射束截面的图案形成装置；支撑衬底的衬底台；以及包括微透镜阵列的用于把辐射束投射到衬底的目标部分的投射系统。设置用于提供补偿微透镜阵列中位置误差的影响的误差校正值的误差补偿器，并且设置灰度调制器，用于与误差校正值相关地向图案形成装置的可控单元提供驱动信号，以便通过改变图案的一些部分相对于图案的其它部分的强度来补偿微透镜阵列中位置误差的影响。

基本信息

专利标题：

光刻设备及器件制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1800986A

申请号：

CN200510138200.4

公开（公告）日：

2006-07-12

申请日：

2005-12-21

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

C·－Q·桂P·W·H·德贾格R·－H·芒尼格施米特

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

杨凯

优先权：

CN200510138200.4

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027