光刻设备和器件制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
提供了一种系统和方法，在投影系统内包含不同的可移动透镜，这些透镜可置于辐射束路径内以改变该投影系统的放大倍数。通过改变该投影系统的放大倍数，可以调整每像素曝光的衬底面积，并优化该系统的产量。
基本信息
专利标题 ：
光刻设备和器件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1790169A
申请号 ：
CN200510131768.3
公开（公告）日 ：
2006-06-21
申请日 ：
2005-12-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
K·D·范德马斯特K·Z·特鲁斯特
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
张雪梅
优先权 ：
CN200510131768.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-07-21 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003375008
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2005101317683
公开日 : 20060621
号牌文件序号 : 101003375008
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2005101317683
公开日 : 20060621
2007-12-19 ：
实质审查的生效
2006-06-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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