光刻设备和器件制造方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

一种系统和方法用于引导辐射束以非垂直地照射用于构图该辐射束的单独可控元件的构图阵列。这些单独可控元件可以改变该辐射束的远心。可以通过凹面镜或使用在这些单独可控元件的物场中放置的折叠式反射镜来将该辐射束投射到这些单独可控元件上。可替换地，这些单独可控元件可以改变该辐射束的光轴。

基本信息

专利标题：

光刻设备和器件制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1797214A

申请号：

CN200510134132.4

公开（公告）日：

2006-07-05

申请日：

2005-12-26

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

A·J·布里克J·J·M·巴塞曼斯M·M·T·M·迪伊里奇斯C·瓦格纳L·赖齐科夫S·Y·斯米诺夫K·Z·特鲁斯特

申请人：

ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

李亚非

优先权：

CN200510134132.4

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2010-11-24 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101043378546
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2005101341324
公开日 : 20060705

2006-08-30 ：

实质审查的生效

2006-07-05 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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