光刻设备及器件制造方法
授权
摘要
一种光刻设备包括构成为支撑基底的基底支撑件，和构造为将带图案的辐射束投射到基底的靶部分上的投影系统。该基底支撑件布置为沿着基底的随后定靶的靶部分的预定的轨迹移动基底。该基底支撑件包括输送管构造，用于给基底提供热稳定性。该输送管构造布置为在支撑件中输送热稳定介质，以及经由支撑基底的前面定靶的部分的基底支撑件的部分将介质充分输送离开支撑靶部分的基底支撑件的一部分，使得保持随后定靶的靶部分热稳定。
基本信息
专利标题 ：
光刻设备及器件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1766739A
申请号 ：
CN200510118070.8
公开（公告）日 ：
2006-05-03
申请日 ：
2005-10-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·J·奥坦斯J·J·S·M·梅坦斯F·E·德荣格K·戈尔曼B·门奇特奇科夫E·A·M·范戈佩
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
原绍辉
优先权 ：
CN200510118070.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027 H01L21/68
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-03-03 ：
授权
2007-11-21 ：
实质审查的生效
2006-05-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
