光刻设备和器件制造方法

专利权的终止

摘要

提供了一种光刻设备，包括：照明系统，所述照明系统调整辐射束；构图阵列，所述构图阵列包括单独可控元件以构图；以及投影系统，所述投影系统将该构图辐射束投射在衬底的目标部分上，其中布置该辐射束以便非垂直地照射该构图阵列，其中包括多个构图阵列和相应的多个耦合反射镜，布置每个耦合反射镜以将由相应的构图阵列之一选择性反射的辐射引导到该投影系统中。本发明还提供一种器件制造方法。

基本信息

专利标题：

光刻设备和器件制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101598904A

申请号：

CN200910151900.5

公开（公告）日：

2009-12-09

申请日：

2005-12-26

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

A·J·布里克J·J·M·巴塞曼斯M·M·T·M·迪伊里奇斯C·瓦格纳L·赖齐科夫S·Y·斯米诺夫K·Z·特鲁斯特

申请人：

ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王波波

优先权：

CN200910151900.5

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2018-12-11 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20051226
授权公告日 : 20120530
终止日期 : 20171226

2012-05-30 ：

授权

2010-02-03 ：

实质审查的生效

2009-12-09 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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