本公开涉及半导体技术领域，尤其涉及一种光刻设备。该光刻设备包括机台、基座、放置台、第一挡板、第一驱动装置和搬运装置，其中：机台具有侧面、顶面和底面形成的空腔；侧面上设有输送门，空腔内的转运装置能够经输送门伸出或缩回空腔；放置台用于承载掩膜版载具，且至少能够伸出或缩回基座的承载面；第一驱动装置用于驱动放置台在第一位置和第二位置之间往复移动；在放置台位于第一位置时，放置台位于承载面的边界以内，转运装置能够将掩膜版载具中的掩膜版转运空腔内；在放置台位于第二位置时，放置台至少部分位于承载面的边界以外，搬运装置能够将掩膜版载具搬运至放置台上。该光刻设备能够改善曝光不良情况，并提高晶圆的加工质量。