光刻设备
授权
摘要

本实用新型公开一种光刻设备,用以在一转印滚轮的外表面曝光,光刻设备包括具有一准直焦点的一准直透镜、具有一校正焦点的一校正透镜、具有一汇聚焦点的一汇聚透镜、一曝光装置、以及一分辨率光罩。校正透镜设置在准直透镜相对远离准直焦点的一侧;汇聚透镜设置在校正透镜相对远离校正焦点的一侧;分辨率光罩设置在准直透镜与校正透镜之间。曝光装置用来投射一全息投影图像。分辨率光罩具有多个微结构,多个微结构用来使部分通过分辨率光罩的全息投影图像的光线从校正焦点射出,并依次通过校正透镜与汇聚透镜,最后集中投影在转印滚轮的外表面。借由“分辨率光罩具有多个微结构”的技术方案,光刻设备投影出来的影像的分辨率能被有效地提升。

基本信息
专利标题 :
光刻设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021754277.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-20
授权号 :
CN212647262U
授权日 :
2021-03-02
发明人 :
林刘恭
申请人 :
光群雷射科技股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾
代理机构 :
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 :
刘彬
优先权 :
CN202021754277.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-03-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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