光刻设备

专利权的终止

摘要

一种光刻设备，适于对于基板进行光刻工艺。此光刻设备包括光刻胶涂布及显影装置、曝光装置以及气浮输送装置，其中基板自光刻胶涂布及显影装置移出时，基板具有第一温度范围。气浮输送装置设置于光刻胶涂布及显影装置与曝光装置之间，而气浮输送装置适于将基板输送至曝光装置。气浮输送装置所喷出的气体具有第二温度范围，其中第二温度范围为第一温度范围之部分。基于上述，本发明之光刻设备所形成的图案的变化量能够缩小。

基本信息

专利标题：

光刻设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1955842A

申请号：

CN200510114473.5

公开（公告）日：

2007-05-02

申请日：

2005-10-27

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

吴恒忠

申请人：

中华映管股份有限公司

申请人地址：

台湾省台北市中山北路三段二十二号

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

陈亮

优先权：

CN200510114473.5

主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G03F7/00 G03F7/20 H01L21/00