压力控制阀、用于光刻设备的流体处理结构和光刻设备
公开
摘要

一种压力控制阀,包括:通路(210),其具有限定用于使液体和/或气体(215)流动通过的开口(220)的部分;阻塞构件(230),其能够相对于所述开口移位,以将所述开口阻塞不同的量,由此调节通过所述开口的液体和/或气体的体积流率;压电致动器(250);以及连杆机构(400),其适于放大所述压电致动器的尺寸改变的量,并且使用放大后的尺寸改变量来相对于所述开口移动所述阻塞构件,其中,所述连杆机构包括框架(500),所述框架附接到一壁并且在第一端处相对于所述通路固定,所述框架的可移动部分(508)能够在第一方向上移动,同时在与所述第一方向正交的第二方向上基本上被约束,所述压电致动器在所述壁与所述可移动部分之间延伸,使得所述压电致动器的膨胀引起所述可移动部分在所述第一方向上移动的量大于所述压电致动器的膨胀量,所述可移动部分连接到所述阻塞构件。

基本信息
专利标题 :
压力控制阀、用于光刻设备的流体处理结构和光刻设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114294460A
申请号 :
CN202210021840.0
公开(公告)日 :
2022-04-08
申请日 :
2017-09-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
S·M·J·杨森K·库依皮尔斯R·H·M·考蒂S·斯里瓦斯塔瓦T·J·A·伦克斯J·G·高森E·H·E·C·奥姆梅伦H·J·舍伦斯A·M·W·黑伦B·蓝森
申请人 :
ASML荷兰有限公司
申请人地址 :
荷兰维德霍温
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
胡良均
优先权 :
CN202210021840.0
主分类号 :
F16K31/00
IPC分类号 :
F16K31/00  F16K1/42  F16K41/10  G03F7/20  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F16
工程元件或部件;为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施;一般绝热
F16K
阀;龙头;旋塞;致动浮子;通风或充气装置
F16K
阀;龙头;旋塞;致动浮子;通风或充气装置
F16K31/00
操作装置;释放装置
法律状态
2022-04-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332