光刻设备
授权
摘要
一种光刻设备包括用于提供辐射束的辐射系统，以及用于支撑构图装置的第一支撑件。该构图装置用于构图辐射束。该设备包括用于支撑基底的第二支撑件，用于将带图案的束投射到基底的靶部分上的投影系统，以及用于在投影系统下面延伸的气体的伸长的体积中提供沿着轴线延伸的干涉测量束的干涉仪测量系统。该设备还包括用于在该体积中提供调节的气体流的气体调节结构。该气体调节结构包括设置在该结构的出口处的多个气体导向叶片，用于将气体流导向到该体积。该气体导向叶片连续成形，且定向为离开该体积的轴线发散。
基本信息
专利标题 ：
光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1770010A
申请号 ：
CN200510118032.2
公开（公告）日 ：
2006-05-10
申请日 ：
2005-10-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
N·A·拉勒曼特M·贝克斯W·F·G·M·赫托格D·T·W·范德普拉斯S·科伊林克R·詹森
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
原绍辉
优先权 ：
CN200510118032.2
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 G03F7/20 G03F9/00 H01L21/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2010-09-29 ：
授权
2007-12-19 ：
实质审查的生效
2006-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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