一种光刻设备
授权
摘要
本实用新型实施例提供了一种光刻设备，该光刻设备包括传输装置、气浴装置、温度控制装置和洁净度控制装置；该光刻设备中的温度控制装置和洁净度控制装置，分别对气浴装置的气体管路中传输的气浴气体进行温度和洁净度的调节，能够将气体管路中传输的气浴气体的温度调节至预设温度范围内，以及将气体管路中传输的气浴气体的洁净度调节至预设洁净度范围内，从而在气浴气体对传输装置的各个区域进行气浴时，精确控制传输装置中传输的待光刻样品的温度和洁净度，以使待光刻样品通过传输装置传输的过程中具有合适的温度和较高的洁净度，进而提高光刻设备的光刻质量。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920608193.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-29
授权号 ：
CN209930814U
授权日 ：
2020-01-10
发明人 ：
黄逸凡张明辉郑教增姜杰陈淮阳
申请人 ：
上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
孟金喆
优先权 ：
CN201920608193.7
主分类号 ：
H05K7/20
IPC分类号 ：
H05K7/20
法律状态
2020-01-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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