一种微透镜阵列成像光刻装置设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种微透镜阵列成像光刻装置设备，包括装置主体，所述装置主体的后端设置有连接板，所述连接板的内部设置有滑轮，所述装置主体的前端安装有固定机构，所述装置主体的后端连接板的上方设置有把手，所述装置主体的内部设置有滑杆，所述滑杆的外部装置主体的前方设置有移动板，所述移动板的上端设置有电机箱，所述电机箱的内部设置有散热机构，所述电机箱的内部散热机构的下方连接有收集盒。本实用新型所述的一种微透镜阵列成像光刻装置设备，可以便于在装置的固定，可以便于装置的内部散热，可以防止灰尘进入到装置的内部，同时也可以收集灰尘，便于装置内部烟气的排出。
基本信息
专利标题 ：
一种微透镜阵列成像光刻装置设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922429119.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-30
授权号 ：
CN211348993U
授权日 ：
2020-08-25
发明人 ：
张博路海马伟生党燕刘洪涛许长全
申请人 ：
新乡市百合光电有限公司
申请人地址 ：
河南省新乡市新乡经济开发区玉龙路西段
代理机构 ：
新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨杰
优先权 ：
CN201922429119.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-08-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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