一种双光束无掩模光刻系统
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摘要
本发明公开了一种双光束无掩模光刻系统。所述双光束无掩模光刻系统包括：第一和第二光源、扩束匀化单元(2)、光场调制单元(3)和光束调节单元(4)，第一光源用于发射激发光；第二光源用于发射损耗光；光束调节单元(4)用于将扩束匀化单元(2)和光场调制单元(3)处理后形成的图形化平行光束阵列转化为成像平面上的像素点阵，像素点阵的非零像素点的中心为第一光束实心圆(601)、外环为第二光束中空环(602)，其中，第一光束实心圆(601)的直径大于第二光束中空环(602)的内直径，小于第二光束中空环(602)的外直径。本发明的双光束无掩模光刻系统可以缩小单个光刻点的大小，从而能够显著提高光刻分辨率。
基本信息
专利标题 ：
一种双光束无掩模光刻系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112987506A
申请号 ：
CN202110209817.X
公开（公告）日 ：
2021-06-18
申请日 ：
2021-02-24
授权号 ：
CN112987506B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
陈冠楠梅文辉
申请人 ：
中山新诺科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一
代理机构 ：
北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
石辉
优先权 ：
CN202110209817.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2021-07-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20210224
申请日 : 20210224
2021-06-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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