基于相位掩模板的双光束干涉刻写光纤光栅装置
授权
摘要
本实用新型公开一种基于相位掩模板的双光束干涉刻写光纤光栅装置，涉及光纤技术领域，包括光源、相位掩膜板、ASE光源和光谱仪，还包括：放大模块，包括两个光放大器，两个所述光放大器分别对所述相位掩模板输出的±1级衍射光进行放大处理，获取两束放大光；相位调制模块，包括两个电光相位调制器，两个所述电光相位调制器分别位于对应所述光放大器的输出侧；控制模块，根据所述光谱仪的反馈信息，控制所述相位调制模块调制两束所述放大光的相位，获取两束调制光；两束所述调制光在待刻写光纤上形成干涉区。本实用新型可以自由调节所刻写的光纤光栅周期，减少对相位掩模板的依赖。
基本信息
专利标题 ：
基于相位掩模板的双光束干涉刻写光纤光栅装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021670439.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-12
授权号 ：
CN212781324U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
魏韦应国梁
申请人 ：
南京聚科光电技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市经济技术开发区恒园路龙港科技园A1栋605室
代理机构 ：
南京先科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙甫臣
优先权 ：
CN202021670439.2
主分类号 ：
G02B6/02
IPC分类号 ：
G02B6/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/02
带有包层的光导纤维
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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