浸没式多芯光纤光栅刻写装置
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摘要

本发明涉及一种浸没式多芯光纤光栅刻写装置,由用于产生线状紫外光斑的线状紫外光斑产生模块、浸没式光栅刻写模块和用于实时监测多芯光纤光栅刻写效果,判定刻写结束条件的刻写监测模块组成,其中,所述浸没式光栅刻写模块由紫外透过窗、相位掩膜版、液体槽、角度可调光纤夹具和折射率匹配液体组成。折射率匹配液体的折射率为[x‑0.457,x+0.54],x为多芯光纤包层的折射率,角度可调光纤夹具夹持多芯光纤浸没于折射率匹配液体中,且紫外透过窗、相位掩膜版和角度可调光纤夹具均与线状紫外光斑的传播方向垂直。本发明通过折射率匹配液体中消除或减少光纤柱面效应的影响,实现多纤芯的均匀刻写,适用于各种材料、各种直径的多芯光纤。

基本信息
专利标题 :
浸没式多芯光纤光栅刻写装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113900176A
申请号 :
CN202111506288.6
公开(公告)日 :
2022-01-07
申请日 :
2021-12-10
授权号 :
CN113900176B
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
孟雷欣王立强杨青庄圆
申请人 :
之江实验室;浙江大学
申请人地址 :
浙江省杭州市余杭区文一西路1818号人工智能小镇10号楼
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
邱启旺
优先权 :
CN202111506288.6
主分类号 :
G02B6/02
IPC分类号 :
G02B6/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导;包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/02
带有包层的光导纤维
法律状态
2022-05-24 :
授权
2022-01-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 6/02
申请日 : 20211210
2022-01-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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