一种分布反馈光纤激光器的相移光纤光栅刻写系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种分布反馈光纤激光器的相移光纤光栅刻写系统，包括紫外激光器、电动位移台、反射镜、多维位移台、平凸柱透镜、设置在紫外激光器和反射镜之间的电子快门、第一多维调节架、安装在第一多维调节架上的相位掩模版、用于固定相位掩膜版的压电陶瓷、第二多维调节架、设置在第二多维调节架上的第一高精度光纤夹具、第三多维调节架、设置在第三多维调节架上的第二高精度光纤夹具、通过第一高精度光纤夹具夹紧的第一无源光纤、通过第二高精度光纤夹具夹紧的第二无源光纤、有源光纤、连接第一无源光纤和有源光纤的第一有源光纤和无源光纤熔点和连接第一无源光纤和有源光纤的第二有源光纤和无源光纤熔点和用于搭载以上部件的光学隔震平台。

基本信息

专利标题：

一种分布反馈光纤激光器的相移光纤光栅刻写系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921251712.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-05

授权号：

CN210465747U

授权日：

2020-05-05

发明人：

席晨斐

申请人：

上海瀚宇光纤通信技术有限公司

申请人地址：

上海市奉贤区环城东路383号2幢6楼C10室

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201921251712.5

主分类号：

G02B6/02

IPC分类号：

G02B6/02