切趾长周期光纤光栅刻写装置
授权
摘要
一种切趾长周期光纤光栅刻写装置，包括二氧化碳激光器、扩束透镜组、扫描振镜、聚焦场镜以及光纤操作移动平台，二氧化碳激光器输出的激光的传输路径上依次设置有扩束透镜组、扫描振镜以及聚焦场镜，聚焦场镜的正下方设置有光纤操作移动平台，所述待刻写切趾长周期光纤光栅的光纤安装在光纤操作移动平台，从聚焦场镜出射的激光能够入射到安装在光纤操作移动平台上的光纤上实现切趾长周期光纤光栅刻写。本实用新型能够刻写切趾长周期光纤光栅，采用本装置刻写切趾长周期光纤光栅能够消除由于逐点曝光刻写法导致的折射率突变。
基本信息
专利标题 ：
切趾长周期光纤光栅刻写装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021525350.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-28
授权号 ：
CN212872967U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
王泽锋胡琪浩王蒙李宏业田鑫赵晓帆饶斌裕奚小明陈子伦潘志勇王小林许晓军陈金宝
申请人 ：
中国人民解放军国防科技大学
申请人地址 ：
湖南省长沙市开福区德雅路109号
代理机构 ：
长沙国科天河知识产权代理有限公司
代理人 ：
周达
优先权 ：
CN202021525350.7
主分类号 ：
G02B6/02
IPC分类号 ：
G02B6/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/02
带有包层的光导纤维
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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