振动隔离系统和光刻设备
授权
摘要
本发明涉及一种振动隔离系统(IS)，其包括支撑件(10)、前向致动器(20)和返回装置(40)。支撑件用于将主体(2)支撑到基座(1)上。支撑件具有主体接合表面(12)和基座接合表面(11)。基座接合表面布置为联接至基座。支撑件在联接状态中使主体接合表面联接到主体。支撑件在非联接状态下使主体接合表面与主体分离。前向致动器在联接状态下使主体和主体接合表面一起相对于基座沿第一方向从第一初始位置移动到终点位置。返回装置被配置为在非联接状态下使主体接合表面相对于主体与第一方向反向地从终点位置移动到第二初始位置。
基本信息
专利标题 ：
振动隔离系统和光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110998451A
申请号 ：
CN201880051616.8
公开（公告）日 ：
2020-04-10
申请日 ：
2018-07-02
授权号 ：
CN110998451B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
弗朗西斯库斯·玛丽亚·乔安妮斯·林森休伯图斯·雷尼尔·马丽亚·范里罗普
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN201880051616.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 F16C33/74
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2020-05-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180702
申请日 : 20180702
2020-04-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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