衬底台、光刻设备和液体限制系统
授权
摘要
公开了一种衬底台、一种光刻设备和一种液体限制系统。提供了一种用于浸没系统的衬底台，所述浸没系统包括：投影系统，布置成将图像投影到衬底上；和液体限制系统，配置成将浸没液体限制在所述投影系统和所述衬底之间的空间中。所述衬底台包括：衬底保持器，配置成保持衬底；和电流控制装置，布置成在所述浸没液体被限制在所述空间中的同时减小在所述衬底和所述衬底保持器之间流动的电流。
基本信息
专利标题 ：
衬底台、光刻设备和液体限制系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922170733.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-06
授权号 ：
CN213122596U
授权日 ：
2021-05-04
发明人 ：
T·波耶兹B·D·斯霍尔滕D·W·哈伯特L·H·J·斯蒂文斯L·M·费尔南德斯迪亚兹J·A·C·M·皮耶宁堡A·A·索图特W·J·J·韦尔特斯J·M·W·范德温克尔
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN201922170733.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-05-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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