光刻装置,辐射系统和滤波系统

专利权的终止

摘要

一种光刻装置，包括：构造成形成射线的投射光束的辐射系统；滤波系统，设置成在使用中将残余粒子过滤在由辐射源放射的射线的预定截面之外，其中滤波系统包括用于俘获残余粒子的至少第一组金属薄片和第二组金属薄片；以及构造成将射线的透射光束投射到衬底上的投影系统。滤波系统还包括至少第一散热器和第二散热器；其中第一组金属薄片的每个金属薄片热连接到第一散热器，第二组金属薄片的每个金属薄片热连接到第二散热器，从而，在使用中，热量通过第一组金属薄片的每个金属薄片基本向第一散热器传递，热量通过第二组金属薄片的每个金属薄片基本向第二散热器传递；并且其中第一组金属薄片基本延伸在预定截面的第一部分中，第二组金属薄片基本延伸在预定截面的第二部分中，该第一部分和第二部分基本不重叠。

基本信息

专利标题：

光刻装置,辐射系统和滤波系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1808278A

申请号：

CN200510121555.2

公开（公告）日：

2006-07-26

申请日：

2005-12-27

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

A·C·瓦辛克

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

蔡民军

优先权：

CN200510121555.2

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027