本发明提供一种承载台清洁装置及光刻系统，装置包括呈盘状的清洁石、真空罩和真空管路；所述清洁石平行于水平面，所述清洁石的下表面用于与晶圆承载台抵接，所述清洁石具有多个真空孔，所述真空孔贯通所述清洁石的上表面和下表面；所述真空罩设置于所述清洁石的上表面，且所述真空孔位于所述清洁石的上表面的一端被所述真空罩覆盖，所述真空孔与所述真空罩连通；所述真空管路的一端与所述真空罩连通，所述真空管路的另一端外接一真空源。如上配置，清洁石与晶圆承载台研磨后产生的颗粒物将依次通过清洁石的真空孔、真空罩和真空管路被抽真空及时吸走，保证晶圆承载台的台面清洁，提升晶圆承载台的清洁维护效率和效果，避免造成二次污染。