光刻装置、照明系统和过滤系统

专利权的终止

摘要

一种光刻装置包括：构造为使辐射束达到要求的和用来将残骸粒子从辐射源所发出的辐射中过滤出去的过滤系统，其中该过滤系统包括多个用来捕获残骸粒子的薄片，其中多个薄片中的至少一个薄片包括至少两个部分，这两个部分具有相互不同的取向，并且沿着基本上直的连接线相互连接，其中这两个部分的每一个基本上与通过用来基本上与辐射从中发出的辐射源相重合的预定位置延伸的虚平面相重合，该基本上直的连接线与也通过该预定位置延伸的虚直线相重合。

基本信息

专利标题：

光刻装置、照明系统和过滤系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1804727A

申请号：

CN200510121559.0

公开（公告）日：

2006-07-19

申请日：

2005-12-27

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

A·C·瓦辛克

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

黄力行

优先权：

CN200510121559.0

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2017-02-22 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101705177136
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005101215590
申请日 : 20051227
授权公告日 : 20091223
终止日期 : 20151227

2009-12-23 ：

授权

2008-02-13 ：

实质审查的生效

2006-07-19 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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