一种光刻工艺单元装置和光刻系统
授权
摘要
本实用新型实施例公开了一种光刻工艺单元装置和光刻系统。所述光刻工艺单元装置包括：至少两个联线作业的工艺腔室，至少一个所述工艺腔室包括基板支撑组件、第一喷淋组件和第二喷淋组件；所述第一喷淋组件和所述第二喷淋组件的喷淋方向均朝向所述基板支撑组件；工艺控制模块和宕机控制模块，所述工艺控制模块与所述第一喷淋组件电连接，所述宕机控制模块与所述第二喷淋组件电连接。与现有技术相比，本实用新型实施例降低了光刻工艺单元装置在宕机时基板的报废率。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻工艺单元装置和光刻系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920670934.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-10
授权号 ：
CN209657082U
授权日 ：
2019-11-19
发明人 ：
张卢建魏少琦
申请人 ：
昆山国显光电有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
张海英
优先权 ：
CN201920670934.4
主分类号 ：
G03F7/30
IPC分类号 ：
G03F7/30 G03F7/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/30
用液体消除影像的
法律状态
2019-11-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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