基片寻边装置和光刻系统

授权

摘要

本实用新型实施例公开了一基片寻边装置和光刻系统，该基片寻边装置基于NIKON I8光刻机进行改进，该基片寻边装置包括：载片台，用于承载基片；反射式传感器，固定于所述载片台的承载面侧；所述反射式传感器用于探测所述载片台上是否存在基片。本实用新型实施例提供的基片寻边装置，在NIKON I8光刻机的基础上，改对射式寻边为反射式寻边，以实现对透明衬底和非透明衬底的有效寻边。

基本信息

专利标题：

基片寻边装置和光刻系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020862719.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-05-21

授权号：

CN212256006U

授权日：

2020-12-29

发明人：

李华汪光文王晓军王殿辉

申请人：

上海探跃半导体设备有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区宣桥镇宣秋路210号E幢1楼北侧101室

代理机构：

北京品源专利代理有限公司

代理人：

孟金喆

优先权：

CN202020862719.7

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20