一种光刻用真空基片夹具
授权
摘要
本实用新型公开了一种光刻用真空基片夹具，涉及半导体制备技术领域，包括一个可与基片紧密贴合的真空载物台；载物台内设有N组真空吸附结构；真空吸附结构在载物台平面上的投影面积小于待吸附基片的面积；真空吸附结构包括沿真空载物台厚度方向设置的M个真空孔，真空孔为通孔；相邻的真空孔之间通过设在真空载物台内部的真空槽相连通；载物台底部设有与真空吸附结构配套的N个真空吸盘；真空吸附结构的底部被对应的真空吸盘覆盖；真空吸盘与载物台相接处密封；每个真空吸盘的根部中心设有一根真空管，N个真空管由设在末端的一个共同的真空总开关控制。该基片夹具不仅便于调整基片位置、且能够一机多用，提高夹具利用率、降低成本。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻用真空基片夹具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920525407.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-17
授权号 ：
CN209928209U
授权日 ：
2020-01-10
发明人 ：
闫青芝曲迪陈墨白国人靳春艳
申请人 ：
天津华慧芯科技集团有限公司
申请人地址 ：
天津市滨海新区生态城中天大道1620号生态科技园启发大厦12层101
代理机构 ：
天津市鼎和专利商标代理有限公司
代理人 ：
许爱文
优先权 ：
CN201920525407.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-01-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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