一种基片固定夹具
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摘要
本实用新型涉及基片加工技术领域，尤其涉及一种基片固定夹具，其特征是，包括两块相契合的夹板和用于将两块夹板固定的磁铁，两块所述的夹板均呈闭合的边框状，且所述夹板的内侧向内延伸出用于放置、夹持基片的内沿，所述内沿低于夹板设置；所述夹板上表面开设有与所述内沿连通的排水槽；两块所述的夹板均为树脂材质；其中一块所述的夹板上设有至少两个定位柱，另一块所述的夹板上开设有与定位柱相对应的定位通孔，所述磁铁通过相互之间的吸引力对两块夹板进行夹持、固定。本夹具通过两块夹板对基片进行夹持、固定，固定过程简单；排水槽能够及时排出夹具中基片上的水渍；借助磁石能够将固定有基片的夹板吸附固定在铁质框架上，方便溅射镀膜。
基本信息
专利标题 ：
一种基片固定夹具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022003551.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-14
授权号 ：
CN213013080U
授权日 ：
2021-04-20
发明人 ：
李涛
申请人 ：
浙江美迪凯现代光电有限公司
申请人地址 ：
浙江省台州市温岭市产学研工业园科技大道
代理机构 ：
杭州华知专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
张德宝
优先权 ：
CN202022003551.7
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-04-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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