一种适用于小尺寸基片的光刻用真空基片夹具
专利申请权、专利权的转移
摘要

本实用新型公开了一种适用于小尺寸基片的光刻用真空基片夹具,涉及半导体制备技术领域,该真空基片夹具包括真空载物台;载物台内设有N组真空吸附结构;每个真空吸附结构下端连接有抽真空结构;每组真空吸附结构包括沿载物台厚度方向设置的M个第一真空孔,第一真空孔为通孔;相邻的第一真空孔之间通过设在载物台内部的真空槽相连通;还包括设在载物台上可拆卸的辅助装置;该辅助装置上设有与第一真空孔连通的第二真空孔;基片覆盖在第二真空孔之上;辅助装置上端与基片紧密贴合,辅助装置下端与载物台紧密贴合。该夹具不仅便于调整基片位置、而且能够一机多用,提高夹具利用率、降低成本。

基本信息
专利标题 :
一种适用于小尺寸基片的光刻用真空基片夹具
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920524111.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-17
授权号 :
CN209980011U
授权日 :
2020-01-21
发明人 :
闫青芝曲迪陈墨白国人靳春艳
申请人 :
天津华慧芯科技集团有限公司
申请人地址 :
天津市滨海新区生态城中天大道1620号生态科技园启发大厦12层101
代理机构 :
天津市鼎和专利商标代理有限公司
代理人 :
许爱文
优先权 :
CN201920524111.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-01-01 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G03F 7/20
登记生效日 : 20201218
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 天津华慧芯科技集团有限公司
变更后权利人 : 华慧科锐(天津)科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 300467 天津市滨海新区生态城中天大道1620号生态科技园启发大厦12层101
变更后权利人 : 300467 天津市滨海新区中新天津生态城中天大道1620号生态科技园启发大厦11层101室
2020-01-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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