一种光刻机基片定位设备
专利申请权、专利权的转移
摘要
本实用新型公开了一种光刻机基片定位设备,特别是涉及光刻机技术领域,包括基座;基座包括通过螺丝固定在其右端的侧挡板,侧挡板左侧设置有压制板,压制板底部前后两侧固定有弹簧二,且弹簧二底部均与基座焊接,压制板顶部中间固定有连接螺母一,本实用新型的有益效果在于:通过设置缓冲块、滑块、弹簧一和侧板,能够有效的抵消夹持板移动时的一部分作用力,对基板的磨损较小,以解决现有的光刻机基片定位设备,可能会造成基片的损伤的问题;同时通过设置压制板、连接螺母一、连接螺母二、抵紧栓和弹簧二,从在定位过程中而无需使用者用手将基片压住,使用较为方便,以解决现有的光刻机基片定位设备,操作起来不方便的问题。
基本信息
专利标题 :
一种光刻机基片定位设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021019320.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-05
授权号 :
CN212749520U
授权日 :
2021-03-19
发明人 :
不公告发明人
申请人 :
薛广梅
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区福永新和工业南区悦盛一路22号宏永利有限公司
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202021019320.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-07-23 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G03F 7/20
登记生效日 : 20210713
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 薛广梅
变更后权利人 : 上海大尘微影半导体科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 518000 广东省深圳市宝安区福永新和工业南区悦盛一路22号宏永利有限公司
变更后权利人 : 200120 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区宏祥北路83弄1-42号20幢118室
登记生效日 : 20210713
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 薛广梅
变更后权利人 : 上海大尘微影半导体科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 518000 广东省深圳市宝安区福永新和工业南区悦盛一路22号宏永利有限公司
变更后权利人 : 200120 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区宏祥北路83弄1-42号20幢118室
2021-03-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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