基片定位装置及纳米压印机

授权

摘要

本实用新型提出一种基片定位装置，包括，真空吸盘，在真空吸盘上，自真空吸盘外边缘向其中心设置多个环形的真空槽，真空槽内设置有真空孔，在真空吸盘上表面上，真空槽与真空槽之间设置通过两直线连接成的定位角，定位角为直角并设置有四个，四个定位角之间的连线呈方形框，以将内侧的真空槽环绕于其内，基片放置于真空吸盘上表面，且覆盖任意一个或多个真空槽，基片与方形框相对应；真空装置，与真空孔连通。一种纳米压印机，包括基片定位装置。本实用新型能够有效防止基片因不能完全覆盖真空槽而产生的漏气、飞片现象，也能够防止溢出的胶体进入真空吸盘导致的基片与真空吸盘粘合现象，以及真空孔及气管的堵塞现象，以延长设备使用寿命。

基本信息

专利标题：

基片定位装置及纳米压印机

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021310377.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-07

授权号：

CN212060865U

授权日：

2020-12-01

发明人：

冀然

申请人：

青岛天仁微纳科技有限责任公司

申请人地址：

山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室

代理机构：

山东重诺律师事务所

代理人：

王鹏里

优先权：

CN202021310377.4

主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G03F7/00