一种用于纳米压印设备的模具基片定位辅助装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于纳米压印设备的模具基片定位辅助装置，包括V形板和支撑底架，所述V形板的两边后端均固定安装有支撑柱，所述支撑底架上设有定位孔，所述定位孔为成对设置，两个所述支撑柱分别插接在两个所述定位孔内，所述支撑底架上固定安装有基片托盘，所述支撑底架的顶部左右两侧均设有固定件，本实用新型通过设置V形板、带有定位孔的支撑底架，V形板通过定位孔固定到支撑底架某一位置时，可确定一种模具基片的固定半径圆心，从而对该种尺寸模具基片中心位置进行精确定位，当V形板固定到其他定位孔时，又可对另一种尺寸模具位置进行精确定位。
基本信息
专利标题 ：
一种用于纳米压印设备的模具基片定位辅助装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020089156.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-16
授权号 ：
CN210954604U
授权日 ：
2020-07-07
发明人 ：
冀然
申请人 ：
青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请人地址 ：
山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020089156.2
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2020-07-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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