一种精准定位的纳米压印设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种精准定位的纳米压印设备，腔体内壁顶面通过支架固定装配有承压板，腔体的内腔顶部固定装配有紫外灯，承压板的中部开设有观察窗，承压板顶部四角处固定安装有线光源发射器，线光源发射器的光线于承压板中心位置交汇形成荧光标记，承压板的底面吸附有软膜，腔体内腔底面中部固定装配有带电机的升降装置，升降装置的上端通过加热底盘固定装配有托盘，托盘上端插接有定位器，托盘上端吸附有基板，本装置四角分布有线光源发射器，光线交汇形成荧光标记，下方的基片通过定位器进行位置的精准定位，通过对上下位置对应的软膜和基片分别进行精准定位，实现制备的印章与玻璃之间零偏差的效果，提高成品率。
基本信息
专利标题 ：
一种精准定位的纳米压印设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020343340.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-18
授权号 ：
CN211236560U
授权日 ：
2020-08-11
发明人 ：
冀然
申请人 ：
青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请人地址 ：
山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020343340.5
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2020-08-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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