一种均匀纳米压印设备

授权

摘要

本实用新型提出一种均匀纳米压印设备，包括：外壳；基台，位于外壳内；吸盘，位于基台上方与基台平行设置，涂有压印胶的基片放置在吸盘上；真空发生装置A，与吸盘连接；加热装置，位于吸盘下方；吸板，位于吸盘上方，吸板中心设置有透光孔，与透光孔连接有透明的平板；真空发生装置B，与吸板连接；光栅尺位移传感器，与吸板连接，光栅尺位移传感器至少设置有两个；紫外曝光装置，位于外壳顶部并朝向吸板，紫外曝光装置竖向移动至吸板上方并透过平板对模板与基片之间的压印胶进行固化；控制器。本实用新型能够保证压印的均匀性和连续性，不会产生气泡，并且能够在运输过程中实时纠正偏移和传输张力，压力分布均匀，适应性好。

基本信息

专利标题：

一种均匀纳米压印设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922287110.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-19

授权号：

CN210803965U

授权日：

2020-06-19

发明人：

冀然

申请人：

苏州天仁微纳智能科技有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市常熟经济技术开发区四海路11号科创园1号楼311室

代理机构：

北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

陈娟

优先权：

CN201922287110.1

主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G03F7/00