纳米压印模板
授权
摘要
本实用新型公开了一种纳米压印模板，该纳米压印模板包括：柔性有机层；柔性无机层，位于所述柔性有机层上，其中所述柔性有机层超出所述柔性无机层的至少一个边缘以使部分所述柔性有机层露出；以及压印层，位于所述柔性无机层的远离所述柔性有机层的一侧且覆盖所述柔性无机层；其中所述压印层延伸跨过所述柔性无机层的所述至少一个边缘以与所述柔性有机层的露出部分连接。由于设置了柔性无机层，使纳米压印模板更不容易在外力的作用下发生变形，也不容易受外界温度或湿度的影响，提高了纳米压印模板的尺寸稳定性和可重复性。
基本信息
专利标题 ：
纳米压印模板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022217802.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
CN213601033U
授权日 ：
2021-07-02
发明人 ：
尹广春A.克雷伯斯韩源罗龙
申请人 ：
镭亚电子（苏州）有限公司;镭亚股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市常熟高新技术产业开发区金门路2号
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
于小宁
优先权 ：
CN202022217802.1
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2021-07-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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