纳米压印模板及其制造方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种纳米压印模板及其制造方法。所述纳米压印模板包括基板和形成在基板上的单元结构。所述基板包括：基底(1)、第一微结构阵列层(2)、第一键合层(4)、第一柔性层(11)和基础层(13)。第一微结构阵列层包括多个第一微结构，该多个第一微结构之间通过第一空腔(3)间隔开。第一键合层(4)设置在该第一微结构阵列层(2)的上方且与所述第一微结构阵列层(2)的上表面低温键合在一起。第一插入层(5)设置于所述第一键合层上。第一柔性层(11)设置在所述第一插入层上方。基础层(13)设置在所述第一柔性层(11)上方。本发明的纳米压印模板可以有效地降低模板制造过程和使用过程中产生的应力问题。
基本信息
专利标题 ：
纳米压印模板及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114265282A
申请号 ：
CN202111592119.9
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2021-12-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
罗刚
申请人 ：
罗刚
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区郭苑路保利居上小区18栋1001
代理机构 ：
苏州三英知识产权代理有限公司
代理人 ：
席勇
优先权 ：
CN202111592119.9
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/00
申请日 : 20211223
申请日 : 20211223
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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