纳米压印机
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
本发明提供了一种纳米压印机，包括X－Y粗动工作台、找平装置、X－Y微动工作台、承片板、转动工作台；X－Y粗动工作台由二个步进电机带动，实现模板和承片板上的样品水平方向的粗定位；找平装置中的压力传感器用于压印和分离过程中，对压力进行测量和控制，控制直流伺服电机带动模板实现上、下运动；X－Y微动工作台由二个压电陶管驱动，调节模板和样品之间水平方向的精定位；转动工作台由二个步进电机驱动，分别实现模板和样品之间转角的精定位、粗定位。本发明具有优于20nm定位对准精度，能满足特征尺度在100纳米以下、多层图案的低成本、大批量的制作；能工作于冷压印和热压印两种压印模式，具有较好的灵活性。
基本信息
专利标题 ：
纳米压印机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1775546A
申请号 ：
CN200510019944.4
公开（公告）日 ：
2006-05-24
申请日 ：
2005-12-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张鸿海范细秋刘胜刘华勇贾可汪学方甘志银马斌
申请人 ：
华中科技大学
申请人地址 ：
430074湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 ：
华中科技大学专利中心
代理人 ：
朱仁玲
优先权 ：
CN200510019944.4
主分类号 ：
B41M5/00
IPC分类号 ：
B41M5/00 B41M1/12 B41F17/00 B41F19/08 G03F7/20
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B41
印刷；排版机；打字机；模印机
B41M
印刷、复制、标记或拷贝工艺；彩色印刷
B41M5/00
复制或标记方法；供其使用的单张材料
法律状态
2009-01-28 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2007-10-03 ：
授权
2006-07-19 ：
实质审查的生效
2006-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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