一种纳米压印设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种纳米压印设备，包括腔体，腔体的内腔固定连接有托盘，托盘的顶侧壁装配有基板，腔体的内腔装配有紫外灯罩，紫外灯罩的内腔装配有紫外灯，压板的底侧壁装配有软模具，软模具的底侧壁装配有夹具，紫外灯罩的底侧壁装配有遮光板，遮光板的外侧壁对称固定连接有凹块，凹块的内腔装配有凸块，凸块的外侧壁固定连接有弹簧，弹簧的外侧壁固定连接有侧杆，侧杆的外侧壁与支架固定连接。本实用新型设置一种纳米压印设备，通过弹簧推动凸块，将遮光板进行固定，然后进行纳米压印，该过程在不更换软模具的情况下，仅需更换基板，实现循环操作，而且避免发生溢胶现象，防止造成基板粘在托盘上难以分离。
基本信息
专利标题 ：
一种纳米压印设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020088977.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-16
授权号 ：
CN210954603U
授权日 ：
2020-07-07
发明人 ：
冀然
申请人 ：
青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请人地址 ：
山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020088977.4
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2020-07-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
