纳米压印设备用组合式吸盘
授权
摘要
本实用新型提出一种纳米压印设备用组合式吸盘，包括，第一基盘，其与纳米压印设备的机体连接，所述第一基盘上设置有真空槽组，与所述真空槽组连接有真空发生装置，以在所述真空槽组内产生负压可固定圆形基片，所述第一基盘上方可放置有第二基盘，所述第二基盘可通过所述真空槽组内产生的负压固定在所述第一基盘的上表面，在所述第二基盘的上部设置有可用于容纳异形基片的容纳部，所述容纳部与所述真空槽组连通，以在所述容纳部内产生负压可固定异形基片。本实用新型可以吸附圆形基片，也可以吸附除圆形以外其他形状的基片，且能够保证压印结构的平行度，节约了成本，提高了生产效率。
基本信息
专利标题 ：
纳米压印设备用组合式吸盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021761500.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-21
授权号 ：
CN212569416U
授权日 ：
2021-02-19
发明人 ：
冀然
申请人 ：
青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请人地址 ：
山东省青岛市城阳区城阳街道祥阳路106号青岛未来科技产业园6号厂房
代理机构 ：
山东重诺律师事务所
代理人 ：
王鹏里
优先权 ：
CN202021761500.4
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2021-02-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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