本发明公开了一种真空吸盘、纳米压印设备及其控制方法，用于纳米压印设备，所述纳米压印设备包括滚压机构，所述真空吸盘包括：吸盘本体；吸附孔，所述吸附孔阵列设置在所述吸盘本体上，沿与滚压机构辊压前进方向垂直的方向的一列或多列吸附孔连通形成一个吸附单元，所述吸附孔阵列形成多个吸附单元。本发明的有益之处在于，通过设置阵列排布的吸附孔，在压印过程中逐步吸真空，使软膜在压印过程中不出现褶皱和气泡，同时使软膜与基板配合更加紧密，压印效果更好，在加工完成后，逐步破真空，方便软膜的拿取。