用于纳米压印的均匀旋涂设备
授权
摘要
本实用新型提出一种用于纳米压印的均匀旋涂设备，包括：真空吸盘；电机，与真空吸盘的底部连接；基板夹具，位于真空吸盘上；其中，基板夹具包括：与真空吸盘上表面滑动连接的第一夹持部以及第二夹持部，第一夹持部与第二夹持部卡接并定位基板的中心与真空吸盘的中心重合于一点；真空吸盘上表面分别设有用于固定基板的基板固定部，以及用于固定基板夹具的夹具固定部，夹具固定部位于基板固定部外侧；在真空吸盘上表面上位于基板固定部的位置设有支撑部，支撑部的上表面与基板固定部以及夹具固定部的上表面平齐。本实用新型能对异形基板进行有效旋涂，使其基板表面各处胶液厚度均匀。
基本信息
专利标题 ：
用于纳米压印的均匀旋涂设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922466659.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN211914428U
授权日 ：
2020-11-13
发明人 ：
冀然
申请人 ：
青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请人地址 ：
山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922466659.7
主分类号 ：
B05C13/02
IPC分类号 ：
B05C13/02 B05C11/08 B05C15/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C13/00
操纵或夹持工件的方法，如对单个物体
B05C13/02
对特殊物品
法律状态
2020-11-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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