一种用于大面积纳米压印的自适应压印头
授权
摘要
本实用新型公开一种用于大面积纳米压印的自适应压印头包括：框体、放置板，框体前侧壁设有矩形凹槽，且所述矩形凹槽连接至所述框体底部内壁，且所述框体外壁两侧分别设有矩形贯穿槽，且所述矩形凹槽内壁底部分别设有两个等距第一固定件，且所述第一固定件顶部内侧壁设有第一滑轮槽，放置板位于所述第一滑轮槽顶部，且所述放置板底部设有第一滑动轮，所述第一滑动轮外侧壁连接至所述第一滑轮槽内侧壁，该一种用于大面积纳米压印的自适应压印头，能够增加人工在工作时的效率，且提高人工可以便捷查看内部工作的情况和便捷的放入物件至工作台来进一步增加整体的便捷性。
基本信息
专利标题 ：
一种用于大面积纳米压印的自适应压印头
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122696040.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-05
授权号 ：
CN216286148U
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
陈腾刘志宇何凯万红日张娜
申请人 ：
徐州工程学院
申请人地址 ：
江苏省徐州市云龙区丽水路2号
代理机构 ：
郑州豫原知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
轩丽杰
优先权 ：
CN202122696040.2
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-04-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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