大面积压印光刻
授权
摘要
提供了使用压印光刻技术用于图案化分配在柔性衬底或平坦衬底上的可聚合材料的方法和系统。还呈现了模板复制方法和系统，其中来自主模板的图案被转印到柔性衬底以形成柔性薄膜模板。这样的柔性薄膜模板则被用来图案化大面积平坦衬底。可通过模板和衬底之间的相对平移来发起和传播压印模板和衬底之间的接触。
基本信息
专利标题 ：
大面积压印光刻
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109407463A
申请号 ：
CN201811066954.7
公开（公告）日 ：
2019-03-01
申请日 ：
2013-02-22
授权号 ：
CN109407463B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
崔炳镇S·H·安M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安M·N·米勒S·V·斯里尼瓦桑
申请人 ：
分子制模股份有限公司
申请人地址 ：
美国得克萨斯州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
金红莲
优先权 ：
CN201811066954.7
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 B29C59/02 B82Y10/00 B82Y40/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2019-03-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/00
申请日 : 20130222
申请日 : 20130222
2019-03-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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