一种巯基-烯纳米压印光刻胶及其使用方法
授权
摘要
本发明属于紫外纳米压印的技术领域，公开了一种巯基‑烯纳米压印光刻胶及其使用方法。所述巯基‑烯纳米压印光刻胶，包括以下按重量份数计的组分：含双键的杯芳烃衍生物50‑100份、含巯基的杯芳烃衍生物50‑100份、稀释剂20‑100份、引发剂0.1‑8份。本发明的巯基‑烯纳米压印光刻胶具有固化速率快、抗氧阻、耐刻蚀性能优异等特点。
基本信息
专利标题 ：
一种巯基-烯纳米压印光刻胶及其使用方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108897192A
申请号 ：
CN201810354663.1
公开（公告）日 ：
2018-11-27
申请日 ：
2018-04-19
授权号 ：
CN108897192B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
庞浩李桃廖兵年福伟黄建恒汪慧怡韦代东蒙业云罗业燊
申请人 ：
中科院广州化学有限公司南雄材料生产基地;中科院广州化学有限公司;中科院广州化学所韶关技术创新与育成中心;南雄中科院孵化器运营有限公司;中国科学院大学
申请人地址 ：
广东省韶关市南雄市珠玑工业园（广东南雄精细化工基地）
代理机构 ：
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 ：
陈智英
优先权 ：
CN201810354663.1
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/027 G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2018-12-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20180419
申请日 : 20180419
2018-11-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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