压印衬底
授权
摘要
本实用新型提供一种压印衬底，用于固定于压印设备的载物台上，压印衬底为用于制备衍射光学元件或微透镜阵列的压印衬底，压印衬底包括：功能部和稳定部，功能部用于涂覆光固化或热固化胶水，功能部具有厚度均匀的有效区和包围有效区的无效区，有效区用于作为纳米压印图形的承载区域。稳定部固定设置于功能部的无效区上，且稳定部的厚度大于功能部的厚度。本实用新型的实施例利用稳定部的重力抵抗胶水固化过程中的内缩应力，避免了衬底翘曲变形，提高了产品的合格率，进而为选择大尺寸超薄衬底提供了条件。同时，本实用新型还提供了一种压印方法，依靠前述的压印衬底进行纳米压印。
基本信息
专利标题 ：
压印衬底
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122826474.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-18
授权号 ：
CN216647081U
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
徐琦张国伟刘博蒋超田克汉王淼
申请人 ：
北京驭光科技发展有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区知春路23号6层609室
代理机构 ：
北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郝文博
优先权 ：
CN202122826474.X
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 G02B3/00 G02B5/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-05-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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